鍍鎳技術除電鍍以外的別的方法

      1、脈沖化學鍍鎳 

      將脈沖技術引人到化學鍍鎳中構成脈沖化學鍍鎳，這是80年代中期發(fā)展起來的一種新的化學鍍鎳技術。其最初的出發(fā)點是用以提高鍍速，有人證明，在85℃施鍍時，脈沖化學鍍鎳的鍍速是普通化學鍍鎳的2～3倍，鍍層性能和質量均得以提高，溶液的pH 值穩(wěn)定。利用脈沖化學鍍進行低溫化研究，認為由于電脈沖的催化作用，使得酸性化學鍍鎳的施鍍溫度降至50C時，仍有11μm/h的沉積速度，鍍層含P量達10.48%(質量分數(shù))，組織結構依然為非晶態(tài)，鍍層性能與80℃施鍍的普通化學鍍鎳層相當。目前，脈沖低溫化學鍍的報道還很少，但無疑這也是實現(xiàn)低溫化學鍍鎳的一條嶄新的途徑。

      2、光化學法 

      鎮(zhèn)江鍍鎳利用光化學原理在酸性鍍液中實施低溫化學鍍鎳是近年來低溫化學鍍鎳的一個新的發(fā)展方向。在室溫下，利用激光束的照射使鍍液局部升溫達到化學鍍鎳的引發(fā)溫度，可實現(xiàn)光照區(qū)化學鍍鎳，鍍速可提高幾個數(shù)量級，而且鍍層性能明顯改善，同時也解決了以往低溫化學鍍鎳須在堿性條件下進行鍍液易產(chǎn)生沉淀而導致鍍液分解的弊端；但也存在由于溫差而引起的非光照區(qū)基體金屬溶解和浸蝕等缺點 在此基礎上．在酸性化學鍍鎳的基礎液中加入光敏劑，通過普通光照在室溫下實現(xiàn)了化學鍍鎳，并提出了其作用機理： 

      (1)光敏劑S分子和鎳鉻合離子受光照被激發(fā)，形成激發(fā)態(tài) 

      (2)Ni2+將能量傳遞給基態(tài)光敏劑分子  

      (3)S分子能量高，不穩(wěn)定，將電子傳遞給Ni2+ 

      (4)S+接受H2PO2-的電子返回基態(tài)

      3、超聲波化學鍍鎳 

      早在1955年，Rich發(fā)現(xiàn)在使用20kHz的超聲波作用于堿性化學鍍鎳時鍍速得以顯著的提高。1985年Mallory提出應用于化學鍍鎳的超聲波頻率應在25～40kHz范圍內(nèi)。隨后，許多科研工作者對此進行了研究，發(fā)現(xiàn)超聲波應用于化學鍍鎳不僅能降低工作溫度，而且能提高鍍層性能。 

      超聲波應用于低溫化學鍍鎳的作用機理主要有以下兩種觀點：一種觀點認為超聲波導致鍍液與基體的界面處形成空化作用影響了化學反應。 

      由于超聲波的作用形成了活化態(tài)氫原子，有利于提高反應的還原性能和鎳的沉積速度，從而實現(xiàn)在不影響沉積速度的前提下降低工作溫度。另一種觀點“ 認為，超聲波對鍍液的空化作用，可使氣泡進一步生成和擴大，然后，突然破滅，在這急速的氣泡崩潰期間，產(chǎn)生瞬間高溫，增強了分子碰撞，增加了活化分子數(shù)目，加速了鎳的沉積速度。